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 NIL Technology ApS (NILT)는 나노 패터닝 및 나노 임프린트 리소그래피를 전문으로합니다. 우리는 클린 룸에서 제조 된 하이테크 제품에서 사출 성형으로 제조 된 플라스틱 제품에 이르기까지 나노 구조의 사용을 확대하고 있습니다.
 
 세계 하이테크 회사들에게 마이크로 및 나노 구조를 개발하고 제공하며, 최고 수준의 요구를 충족시킵니다.

 더 나은 건강과 생활을 위한 지속 가능한 나노 구조 생산 솔루션을 구현합니다.


Patterning Technologies

NIL은 100nm 이하의 리소그래피 기법으로, 온도 및 압력 제어 인쇄 공정에서 열가소성 소재를 물리적으로 변형시켜 작동합니다.
 

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Electron Beam Lithography (EBL)

전자빔 리소그래피는 나노 기술에서 상상할 수 있는 거의 모든 종류의 패턴을 만들 수 있는 다목적 도구입니다. 전자빔 리소그래피는 1950 년대 처음 개발된 마스크가 없는 리소그래피 기술입니다.
 
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Laser Interference Lithography

레이저 간섭 리소그래피는 마이크로 미터 및 서브 마이크로 미터의 큰 영역주기 패턴을 정의 할 수 있는 패턴 정의 기술입니다. 간섭 리소그래피는 전자빔 리소그래피 및 레이저 쓰기와 같은 다른 제조 기술에 비해 두 가지 장점이 있습니다.
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